Украсть секрет на 845 миллионов: Китай построил установку, которую ему запрещали иметь
NewsMakerПекин нашел способ обойти санкции и создать свой аналог литографии.
Китайская полупроводниковая промышленность достигла важной вехи: по данным Reuters , страна создала первый отечественный прототип установки для экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии. До сих пор эту сложнейшую технологию производства самых передовых чипов в мире освоила только одна компания — нидерландская ASML.
EUV-литография — вершина современного чипостроения. Мощный лазерный луч направляется на крошечную каплю расплавленного олова, вызывая взрыв с мощнейшей вспышкой ультрафиолетового света. Этот свет фокусируется на кремниевой пластине, позволяя вытравливать схемы толщиной с нить ДНК. По данным ASML , компания вложила более 6 миллиардов евро в исследования и разработку EUV на протяжении 17 лет.
США прилагали огромные усилия, чтобы не допустить попадания этой технологии в Китай. Однако китайские компании, включая Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), годами работали над воспроизведением технологии ASML, привлекая специалистов и занимаясь реверс-инжинирингом комплектующих. По информации WCCFtech , для создания прототипа Китай использовал старые детали ASML. Примечательно, что в 2019 году ASML выиграла судебный иск против бывшего китайского инженера за кражу коммерческих секретов, получив компенсацию в 845 миллионов долларов.
Прорыв оказался неожиданным для экспертов. Ещё в апреле генеральный директор ASML Кристоф Фуке заявлял, что Китаю потребуется «много-много лет» для разработки подобной технологии.
Впрочем, до массового производства EUV-чипов Китаю ещё далеко. По данным источников Reuters, страна намерена вывести EUV-литографию на промышленный уровень к 2030 году.
На фоне бума искусственного интеллекта США и Китай соревнуются в наращивании производственных мощностей. В Китае Huawei строит сеть предприятий совместно со SMIC. В США закон CHIPS and Science Act 2022 года выделил около 280 миллиардов долларов на возрождение отечественного производства полупроводников.
Китайская полупроводниковая промышленность достигла важной вехи: по данным Reuters , страна создала первый отечественный прототип установки для экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии. До сих пор эту сложнейшую технологию производства самых передовых чипов в мире освоила только одна компания — нидерландская ASML.
EUV-литография — вершина современного чипостроения. Мощный лазерный луч направляется на крошечную каплю расплавленного олова, вызывая взрыв с мощнейшей вспышкой ультрафиолетового света. Этот свет фокусируется на кремниевой пластине, позволяя вытравливать схемы толщиной с нить ДНК. По данным ASML , компания вложила более 6 миллиардов евро в исследования и разработку EUV на протяжении 17 лет.
США прилагали огромные усилия, чтобы не допустить попадания этой технологии в Китай. Однако китайские компании, включая Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), годами работали над воспроизведением технологии ASML, привлекая специалистов и занимаясь реверс-инжинирингом комплектующих. По информации WCCFtech , для создания прототипа Китай использовал старые детали ASML. Примечательно, что в 2019 году ASML выиграла судебный иск против бывшего китайского инженера за кражу коммерческих секретов, получив компенсацию в 845 миллионов долларов.
Прорыв оказался неожиданным для экспертов. Ещё в апреле генеральный директор ASML Кристоф Фуке заявлял, что Китаю потребуется «много-много лет» для разработки подобной технологии.
Впрочем, до массового производства EUV-чипов Китаю ещё далеко. По данным источников Reuters, страна намерена вывести EUV-литографию на промышленный уровень к 2030 году.
На фоне бума искусственного интеллекта США и Китай соревнуются в наращивании производственных мощностей. В Китае Huawei строит сеть предприятий совместно со SMIC. В США закон CHIPS and Science Act 2022 года выделил около 280 миллиардов долларов на возрождение отечественного производства полупроводников.